|
整機結構
|
帶load port系統分為前端設備操作單元、前端EFEM單元及等離子處理單元，前端EFEM系統與等離子體處理單元分體式設計
|
|
等離子體源
|
射頻等離子體源或雙頻等離子體源
|
|
反應腔室
|
標準設計為雙反應腔室，可根據需求定制單反應腔室和多反應腔室結構
|
|
機械傳片
|
單臂或雙臂高精度機械手
|
|
Wafer升降
|
機械式Wafer pin升降結構，Wafer pin采用特定工藝處理
|
|
前真空泵
|
干式真空泵，根據安裝位置及工藝不同，選擇100-300m3/h規格
|
|
高真空真空泵
|
分子泵（水冷或CDA冷卻）
|
|
工藝壓力控制
|
自動調壓蝶閥
|
|
真空檢測
|
管道真空計、反應腔室全量程真空計、工藝真空計、壓差開關
|
|
工藝氣體種類
|
標準配置高純Ar、N2、O2，可增加其他高純工藝氣體
|
|
氣體流量控制
|
質量流量控制器（MFC）
|
|
控制系統
|
基于工業電腦設計開發的人機交互系統，系統設計人性化、操作簡單
|